提高掃描電鏡（SEM）圖像對(duì)比度，可以從 電子束條件、樣品處理、探測(cè)方式和成像參數(shù) 四個(gè)方向入手：

1. 電子束條件優(yōu)化

加速電壓調(diào)整：較低電壓時(shí)，二次電子信號(hào)占優(yōu)勢(shì)，表面形貌對(duì)比增強(qiáng)；較高電壓則更容易看清內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

束流控制：合適的束流強(qiáng)度能提升信號(hào)量，從而增強(qiáng)明暗差別，但過強(qiáng)會(huì)導(dǎo)致充電或損傷。

2. 樣品處理

導(dǎo)電鍍膜：對(duì)絕緣樣品進(jìn)行金、鉑或碳鍍膜，可減少充電并增強(qiáng)邊緣清晰度。

表面清潔：去除油脂和污染物，避免背景信號(hào)干擾對(duì)比度。

選擇性腐蝕或斷面制備：在材料科學(xué)中，適當(dāng)?shù)闹苽淠芡怀霾煌嗟牟町悺?/span>

3. 探測(cè)器與信號(hào)選擇

二次電子（SE）信號(hào)：適合觀察表面形貌，邊緣對(duì)比強(qiáng)烈。

背散射電子（BSE）信號(hào)：對(duì)原子序數(shù)差異敏感，能增強(qiáng)成分對(duì)比。

混合模式：同時(shí)采集 SE 和 BSE 信號(hào)，根據(jù)需要調(diào)整權(quán)重，獲得高質(zhì)量的對(duì)比度。

4. 成像與后處理參數(shù)

工作距離：較短的工作距離可提升分辨率，改善對(duì)比。

掃描速度：降低掃描速度或使用幀累積，能減少噪聲，提高對(duì)比度。

亮度與對(duì)比度設(shè)置：在圖像采集軟件中實(shí)時(shí)調(diào)整，避免過曝或過暗。

后處理：適度的直方圖均衡或伽瑪調(diào)整，可進(jìn)一步優(yōu)化對(duì)比度，但應(yīng)避免過度處理以免失真。